薄膜技术

求薄膜技术与薄膜材料

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什么是薄膜刻蚀技术？

薄膜刻蚀技术是一种使用物理或化学的方法使薄膜材料消蚀的技术。它是薄膜淀积的反过程。在薄膜材料的实复际应用中，只把薄膜当作保护或装饰材料使用时，将物件表面镀一层均匀薄膜即可。但是用于制作器件的薄膜材料，一般都要求印刷电路板上的铜膜是具有一定制形状和走向的线条，因此对各种薄膜材料的形状和大小的要求就更为复杂和严2113格。形成具有一定形状和大小的图形薄膜的方法是在镀膜过程中使用掩模板，使基体表面裸露部分生长有薄膜材料，而被掩盖部分则不存在薄膜。

20世纪60年代以5261后，集成电路促进了薄膜技术的发展。在腐蚀工艺中，采用液体化学腐蚀剂的方法称为湿刻法。其中，采用感光法进行薄膜图形4102刻蚀的技术称为光刻，抗蚀膜的制作就采用光刻法。20世纪70年代以后，大规模和超大规模集成电路的发展又要求获得更精细的、直至亚微米级的图形薄膜。湿刻法已不能适应需要，于1653是出现定向腐蚀法，它是通过等离子体刻蚀或反应离子刻蚀得到的。因为这两种技术不使用液体化学品，所以称为干刻。

什么是薄膜光学技术

光学薄膜

opticalcoating

由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。

光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射；膜层之间的相互渗透形成扩散界面；由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性；膜层具有复杂的时间效应。

光学薄膜按应用分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4种。光学反射膜用以增加镜面反射率，常用来制造反光、折光和共振腔器件。光学增透膜沉积在光学元件表面，用以减少表面反射，增加光学系统透射，又称减反射膜。光学滤光膜用来进行光谱或其他光性分割，其种类多，结构复杂。光学保护膜沉积在金属或其他软性易侵蚀材料或薄膜表面，用以增加其强度或稳定性，改进光学性质。最常见的是金属镜面的保护膜。